光電及半導體廠酸、鹼氣去除設備-- 點此詳細介紹
針對光電及半導體製程之酸、鹼性廢氣，有極優異之去除效率，特別是F2、CL2、HF、HCL、NH3等氣體更高達DRE%>99%以上的穩定的去除率，可針對客戶需求設計>99%或甚至>99.99%以上之客製化設計。
對於Thin Film及Etch製程之酸、鹼性氣體有極高之去除率，較傳統Local Scrubber 的heat&wet type或是wet type效率高達十倍以上，且運轉費用極低，無電熱能消耗，也不需燃料，更省水>60%以上，適用氣體如F2、CL2、HF、HCL、NH3....etc. 及其他酸、鹼性ˋ氣體