產品簡介
首頁 產品簡介 光電及半導體廠酸、鹼氣去除設備 光電及半導體廠酸、鹼氣去除設備-- 點此詳細介紹

光電及半導體廠酸、鹼氣去除設備-- 點此詳細介紹

針對光電及半導體製程之酸、鹼性廢氣,有極優異之去除效率,特別是F2、CL2、HF、HCL、NH3等氣體更高達DRE%>99%以上的穩定的去除率,可針對客戶需求設計>99%或甚至>99.99%以上之客製化設計。

對於Thin Film及Etch製程之酸、鹼性氣體有極高之去除率,較傳統Local Scrubber 的heat&wet  type或是wet type效率高達十倍以上,且運轉費用極低,無電熱能消耗,也不需燃料,更省水>60%以上,適用氣體如F2、CL2、HF、HCL、NH3....etc. 及其他酸、鹼性ˋ氣體

光電及半導體廠酸、鹼氣去除設備 1076802