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光電及半導體廠酸、鹼氣去除設備-- 點此詳細介紹
針對光電及半導體製程之酸、鹼性廢氣，有極優異之去除效率，特別是F2、CL2、HF、HCL、NH3等氣體更高達DRE%>99%以上的穩定的去除率，可針對客戶需求設計>99%或甚至>99.99%以上之客製化設計。
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